三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

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3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF中，只有NF3中N元素化合价发生变化，若泄漏会生成NO，遇空气接触会生成NO2红棕色气体易被发现A正确；NF3既是氧化剂又是还原剂B错误；氧化产物为HNO3，还原产物为NO，其物质的量之比为1：2，C错；转移0.2mol电子时，生成NO气体2.24Ｌ

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