三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:NF3 + H2O → NO + HNO3 + HF(氟元素的化合价为-1)。
(1) 配平该反应 NF3+ H2O = NO+ HNO3+ HF。___________
(2) 若生成0.4molHNO3,则转移_________mol电子。
(3)_________是氧化剂,_________是氧化产物,氧化剂与还原剂的物质的量之比为_________。
(2) 若生成0.4molHNO3,则转移_________mol电子。
(3)_________是氧化剂,_________是氧化产物,氧化剂与还原剂的物质的量之比为_________。
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化学
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本题主要考查应有关氧化还原反应的概念和计算。
(1)N的化合价的变化为+3→+2，+3→+5，所以2NO～HNO3，故有3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。
(2)HNO3～2e-，若生成0.4molHNO3，则转移0.8mol电子。
(3)NF3中N的化合价既有降低，又有升高，所以NF3是氧化剂，HNO3是氧化产物，氧化剂NF3成为NO，还原剂NF3成为HNO3，氧化剂与还原剂的物质的量之比为2:1。
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